آموزش مقدمه‌ای بر فرآیندهای نیمه‌هادی ۱ - آخرین آپدیت

هفته اول: بررسی کلی تئوری MOSFET Week 1 Overview of MOSFET theory

• مقدمه Introduction

• ۱-۱ فرآیند نیمه‌هادی و بررسی کلی: MOSFET 1-1 Semiconductor process and Overview: MOSFET

• ۱-۲ اثر کانال کوتاه 1-2 Short Channel Effect

هفته دوم: یکپارچه‌سازی فرآیند CMOS Week 2 CMOS Process Integration

• یکپارچه‌سازی فرآیند CMOS CMOS Process Integration

هفته سوم: اتاق تمیز، پاکسازی RCA و رشد کریستال Week 3 Cleanroom, RCA Cleaning Crystal Growth

• اتاق تمیز، پاکسازی RCA و رشد کریستال Cleanroom, RCA Cleaning Crystal Growth

هفته چهارم: نفوذ و دوپینگ Week 4 Diffusion & Doping

• نفوذ: درایو-این، آنیل سریع حرارتی، آنیل لامپ فلش، مکانیسم نفوذ Diffusion : Drive-in, Rapid Thermal Anneal, Flash Lamp Anneal, Diffusion Mechanism

• معادله نفوذ، پیش‌رسوب و درایو-این، پیوند PN توسط پیش‌رسوب و درایو Diffusion Equation, Predep & Drive-in, PN Junction by Predep & Drive

هفته پنجم: اکسیداسیون Week 5 Oxidation

• اکسیداسیون Oxidation

هفته ششم: کاشت یونی Week 6 Ion Implantation

• کاشت یونی Ion Implantation

• ماسک کاشت Implantation Mask

هفته هفتم: لیتوگرافی Week 7 Lithography

• فتولیتوگرافی Photolithography

• منبع نور Light Source

• استپر و ترازبندی Stepper & Alignment

هفته هشتم: لیتوگرافی EUV Week 8 EUV Lithography

• لیتوگرافی EUV EUV Lithography