آموزش میکروفبریکاسیون و نانوفبریکاسیون (MEMS) - آخرین آپدیت

دانلود Micro and Nanofabrication (MEMS)

نکته: ممکن هست محتوای این صفحه بروز نباشد ولی دانلود دوره آخرین آپدیت می باشد.
نمونه ویدیوها:
توضیحات دوره: اصول میکروفبریکاسیون و نانوفبریکاسیون را با استفاده از موثرترین تکنیک‌ها در محیط اتاق پاک (Cleanroom) بیاموزید. میکروفبریکاسیون و نانوفبریکاسیون پایه و اساس ساخت تقریباً تمام سیستم‌های کوچک‌شده مدرنی هستند که به طور گسترده در زندگی روزمره ما استفاده می‌شوند. نمونه‌هایی از این سیستم‌ها شامل تراشه‌های کامپیوتری و حسگرهای یکپارچه برای نظارت بر محیط، خودروها، تلفن‌های همراه، تجهیزات پزشکی و موارد دیگر است. مباحث میکرو و نانوفبریکاسیون را می‌توان از طریق کتاب‌های درسی و سخنرانی‌های تئوری به دانشجویان و متخصصان آموزش داد، اما یادگیری واقعی زمانی اتفاق می‌افتد که مراحل ساخت را در حین اجرا مشاهده کنید. در این دوره مهندسی، ما یک گام فراتر از آموزش‌های کلاسی برمی‌داریم تا نه‌تنها مبانی هر مرحله از ساخت را توضیح دهیم، بلکه نحوه اجرای آن را از طریق سکانس‌های ویدئویی و نمای نزدیک از تجهیزات به شما نشان دهیم. برای برخی نمونه‌های منتخب، دانشجویان می‌توانند پارامترهای فرآیند را روی یک پنل مجازی تنظیم کنند تا تأثیر آن را بر نتایج پردازش مشاهده نمایند.

سرفصل ها و درس ها

هفته اول: معرفی MEMS و اتاق پاک Week 1: MEMS and cleanroom introduction

  • تیزر Teaser

  • محصولات موفق MEMS: شتاب‌سنج Successful MEMS products: accelerometer

  • محصولات موفق MEMS: میکروفون Successful MEMS products: microphone

  • محصولات موفق MEMS: BAW Successful MEMS products: BAW

  • مطالعه موردی: میکرو-اکچویتور ترمومکانیکی Case study: thermo-mechanical micro-actuator

  • اصول اتاق پاک: معرفی مسئله آلودگی Cleanroom basics: introducing the issue of contamination

  • اصول اتاق پاک: استراتژی اتاق پاک Cleanroom basics: cleanroom strategy

هفته دوم: رسوب شیمیایی بخار (CVD) Week 2: Chemical vapor deposition (CVD)

  • اصول پایه CVD و رآکتورهای CVD Basic principles of CVD and CVD reactors

  • تکنیک‌های CVD در فشارهای عملیاتی مختلف، CVD تقویت‌شده با پلاسما و CVD متال-ارگانیک CVD techniques at different operating pressure, plasma-enhanced CVD and metal-organic CVD

  • رسوب لایه اتمی (ALD) و اکسیداسیون حرارتی سیلیسیم Atomic layer CVD (ALD) and thermal oxidation of silicon

  • مفاهیم تئوری جریان گاز در رآکتورهای CVD Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors

  • مدل رشد لایه نازک در CVD CVD thin film growth model

  • فرآیندهای خاص CVD برای مواد مبتنی بر سیلیسیم و الماس Specific CVD processes for silicon-based materials and diamond

  • فرآیندهای اکسیداسیون حرارتی سیلیسیم و رسوب ALD اکسیدها و فلزات خاص Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxides and metals

هفته سوم: رسوب فیزیکی بخار (PVD) Week 3: Physical vapor deposition (PVD)

  • تبخیر حرارتی: معرفی و ایجاد بخار Thermal evaporation: introduction and vapor creation

  • تبخیر حرارتی: تشکیل لایه و نمونه‌ها Thermal evaporation: film formation and examples

  • تبخیر حرارتی در CMi Thermal evaporation in CMi

  • اسپاترینگ: معرفی و تشکیل پلاسما Sputtering: introduction and plasma formation

  • اسپاترینگ: مناطق مکانی و قانون پاسشن Sputtering: spatial zones and Paschen law

  • اسپاترینگ: DC، RF و مگنترون Sputtering: DC, RF, magnetron

  • اسپاترینگ: برهم‌کنش‌های یون و هدف Sputtering: ion target interactions

  • اسپاترینگ: رشد لایه و پارامترهای کنترلی Sputtering: film growth and control parameters

  • اسپاترینگ: نمونه‌ها Sputtering: examples

  • اسپاترینگ در CMi Sputtering in CMi

  • ضمیمه-سایر تکنیک‌ها: آبکاری یونی، MBE، PLD و غیره SUPPLEMENTARY Other techniques: ion plating, MBE, PLD, …

  • رشد لایه: ورود اتم‌ها و چسبندگی Film growth: atoms arrival and adhesion

  • رشد لایه: تنش در لایه‌های نازک Film growth: stress in thin films

  • ضمیمه-رشد لایه: حالت‌های رشد و ساختار کریستالی SUPPLEMENTARY Film growth: growth modes and crystal structure

هفته چهارم: لیتوگرافی Week 4: Lithography

  • مقدمه‌ای بر لیتوگرافی Introduction to lithography

  • خواص رزین (Resist) و روش‌های نوردهی Resist properties and exposure methods

  • ضمیمه-حساسیت فوتورزیست و تابع انتقال مدولاسیون SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function

  • لیتوگرافی UV: نوشتن مستقیم و نوشتن ماسک UV lithography: direct writing and mask writing

  • لیتوگرافی UV در CMi: ساخت ماسک UV lithography in CMi: mask fabrication

  • لیتوگرافی UV: لیتوگرافی مبتنی بر ماسک UV lithography: mask based lithography

  • لیتوگرافی UV در CMi: لیتوگرافی مبتنی بر ماسک UV lithography in CMi: mask based lithography

  • لیتوگرافی پرتوی الکترونی: بررسی کلی ابزار Electron beam lithography: tool overview

  • لیتوگرافی پرتوی الکترونی: اپتیک الکترونی و انحراف پرتو Electron beam lithography: electron optics and beam deflection

  • ضمیمه-لیتوگرافی پرتوی الکترونی: بررسی کلی ابزار ۲ SUPPLEMENTARY Electron beam lithography: tool overview II

  • ضمیمه-لیتوگرافی پرتوی الکترونی: آماده‌سازی طراحی و شکست SUPPLEMENTARY Electron beam lithography: design preparation and fracture

  • لیتوگرافی پرتوی الکترونی: برهم‌کنش‌های الکترون و نمونه Electron beam lithography: electron-sample interactions

  • لیتوگرافی پرتوی الکترونی: رزین‌ها Electron beam lithography: resists

  • ضمیمه-لیتوگرافی پرتوی الکترونی: اثر مجاورتی (Proximity Effect) SUPPLEMENTARY Electron beam lithography: proximity effect

  • روش‌های جایگزین الگودهی: لیتوگرافی پروب روبشی Alternative patterning methods: scanning probe lithography

  • ضمیمه-روش‌های جایگزین الگودهی: روش‌های تکثیر SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods: replication methods

هفته پنجم: اچینگ خشک (DE) Week 5: Dry etching (DE)

  • اچینگ خشک در پلاسما گاز؛ ناهمسانگردی اچینگ Dry etching in a gas plasma; etching anisotropy

  • اچینگ خشک عمیق سیلیسیم؛ اچینگ خشک بدون پلاسما Deep dry etching of silicon; dry etching without a plasma

  • مفاهیم تئوری تولید پلاسما Theoretical concepts of plasma generation

  • انواع تجهیزات اچینگ خشک و منابع پلاسما Types of dry etching equipment and plasma sources

  • اچینگ پرتوی یونی Ion beam etching

  • نمونه‌هایی از فرآیندهای اچینگ برای مواد مبتنی بر سیلیسیم Examples of etching processes for Si-based materials

  • نمونه‌هایی از فرآیندهای اچینگ برای لایه‌های ارگانیک و فلزات Examples of etching processes for organic films and metals

هفته ششم: اچینگ تر (WE) Week 6: Wet etching (WE)

  • اچینگ تر ناهمسانگرد و همسانگرد سیلیسیم و کاربردهای آن Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications

  • حمام HF برای اچینگ تر SiO2 و شیشه HF bath for SiO2 and glass wet etching

  • اچینگ تر همسانگرد سیلیسیم در حمام HNA Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath

  • اچینگ تر ناهمسانگرد سیلیسیم در حمام‌های قلیایی Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths

  • تکنیک‌های توقف اچینگ برای ساخت میکروفبریکاسیون غشای نازک و ماشین‌کاری توده‌ای Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromachining

  • خشک کردن فوق‌بحرانی برای تحقق ساختارهای معلق؛ میکروساختارهای تست برای تعیین مقدار تنش در لایه‌های نازک Supercritical drying for realization of suspended structures; test microstructures for quantifying stress in thin layers

هفته هفتم: بازرسی و مترولوژی Week 7: Inspection and Metrology

  • میکروسکوپی نوری: بازرسی و اندازه‌گیری ابعاد Optical microscopy: inspection and dimension measurement

  • اندازه‌گیری نوری ضخامت لایه نازک Optical thin film thickness measurement

  • اندازه‌گیری نوری پروفیل سطح Optical surface profile measurement

  • اندازه‌گیری مکانیکی پروفیل سطح Mechanical surface profile measurement

  • میکروسکوپی الکترونی روبشی (SEM) Scanning electron microscopy

  • پرتوی یونی متمرکز: بازرسی و اندازه‌گیری مقطع عرضی محلی Focused ion beam: local cross sectional inspection and measurement

  • مشخصه‌یابی الکتریکی Electrical characterization

یادداشت پایانی Goodbye note

نمایش نظرات

آموزش میکروفبریکاسیون و نانوفبریکاسیون (MEMS)
جزییات دوره
63h 25m
64
(آخرین آپدیت)
65
- از 5
دارد
دارد
دارد
Chris Croft
جهت دریافت آخرین اخبار و آپدیت ها در کانال تلگرام عضو شوید.

Google Chrome Browser

Internet Download Manager

Pot Player

Winrar

Chris Croft Chris Croft

مربی مدیریت، سخنران، نویسنده